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產(chǎn)品詳情
簡(jiǎn)單介紹:
小型樣品臺(tái)往復(fù)單靶磁控鍍膜儀是一款實(shí)驗(yàn)室制備材料薄膜的理想設(shè)備,該小型樣品臺(tái)往復(fù)單靶磁控鍍膜儀配150W直流電源,可用于金屬濺射鍍膜。
詳情介紹:
小型樣品臺(tái)往復(fù)單靶磁控鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的一款高性價(jià)比磁控濺射鍍膜設(shè)備,具有小型化、標(biāo)準(zhǔn)化的特點(diǎn)。磁控靶有1英寸、2英寸可以選擇,客戶可以根據(jù)所鍍基板的大小自主選擇;所配電源為150W直流電源,可用于金屬濺射鍍膜。鍍膜儀配有通氣接口,可以通入保護(hù)性氣體,若客戶需要通入混合氣體,可以聯(lián)系工作人員自行配置高精度質(zhì)量流量計(jì)以滿足實(shí)驗(yàn)需要。儀器標(biāo)配先進(jìn)的渦輪分子泵組,極限真空可達(dá)1.0E-5Pa,同時(shí)另有其他類型的分子泵可供選購(gòu)。
名稱 |
小型樣品臺(tái)往復(fù)單靶磁控鍍膜儀 |
特點(diǎn) |
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技術(shù)參數(shù) |
振動(dòng)值 ≦0.1um、 啟動(dòng)時(shí)間 ≦4.5min、 停機(jī)時(shí)間 <7min、 冷卻方式 水冷+風(fēng)冷
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